應(yīng)空間榮幸地宣布，我們將在5月20日推出群展"去碑營(yíng)IV：密度符陣"。參展藝術(shù)家有：陳梓睿、戴丹丹、戈子馀、胡勤武、黃立言、雷徠、李易紋、李振威、劉聰、歐陽(yáng)蘇龍、孫策、孫子垚、王楫、徐赫、楊欣嘉、應(yīng)歆珣、張佳星、張嗣、張懿、章犇。
　　"去碑營(yíng)"作為應(yīng)空間的一個(gè)長(zhǎng)期常設(shè)項(xiàng)目于去年底正式啟動(dòng)，作為考察性的展覽項(xiàng)目，"去碑營(yíng)"將全面呈現(xiàn)和梳理畫廊目光所及的、對(duì)繪畫最有見地的一群藝術(shù)家的最新實(shí)踐。目前項(xiàng)目已經(jīng)呈現(xiàn)了《北平之春》、《自我作古》、《地域畫家》三次。項(xiàng)目有隱和顯的兩條線索。隱的線索指每次展覽都有一個(gè)關(guān)鍵詞作為組織集結(jié)藝術(shù)家的原則，例如：第一次展覽的"手感"、第二次的"素描"、第三次的"寫生"，即將開幕展覽的"形式"、還有計(jì)劃中的"敘事"。平行于被展覽的作品，我們也有意在展覽中放入另一條線索，即借助藝術(shù)史、文本、關(guān)聯(lián)作品、空間等各種復(fù)雜的關(guān)系構(gòu)建、遭遇、碰撞，將作品帶入特定主題空間，對(duì)繪畫作為行業(yè)、職業(yè)、消費(fèi)品、創(chuàng)造物的各個(gè)環(huán)節(jié)進(jìn)行追問(wèn)。例如，第一次"畫家的政治性"、第二次"作品中的自我"，第三次的"流轉(zhuǎn)遷徙中的地域性和地方主義"。我們?cè)谡褂[中通過(guò)這兩條線索，對(duì)繪畫行為的語(yǔ)言本體和創(chuàng)作邏輯進(jìn)行展示和研究。
　　"去碑營(yíng)IV：密度符陣"除聚焦"形式"這一繪畫要素之外，我們利用過(guò)往的展覽剩余物來(lái)結(jié)構(gòu)空間，像一個(gè)巨人對(duì)上一次展覽搭建進(jìn)行了即興的抹除和留痕，建立了一個(gè)由不同性質(zhì)的物質(zhì)和密度混響的繪畫道場(chǎng)。展覽將于5月20日開幕，并將持續(xù)至6月30日。